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    蘇州帕士卡真空鍍膜技術(shù)常見類型及優(yōu)缺點(diǎn)

    發(fā)布時(shí)間：2022-02-16 12:58 瀏覽： 次

    真空鍍膜技術(shù)是在真空條件下采用物理或化學(xué)方法，使物體表面獲得所需的涂層，目前已被廣泛應(yīng)用于耐酸、耐蝕、耐熱、表面硬化、裝飾、潤滑、光電通訊、電子集成、能源等領(lǐng)域。真空鍍膜技術(shù)也是PVD涂層的常用制備方法，如真空蒸發(fā)、濺射鍍膜和離子鍍等通常稱為物理氣相沉積法（PVD），是基本的涂層制備技術(shù)。接下來，蘇州帕士卡微納米科技有限公司小編為大家分享一下真空鍍膜技術(shù)常見類型及其各自優(yōu)缺點(diǎn)，希望大家有更深的了解。
     
    一、真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)及其優(yōu)缺點(diǎn)
    真空蒸發(fā)鍍膜法(簡稱真空蒸鍍）是在真空室中，加熱蒸發(fā)容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸氣流，入射到基片表面，凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法。
     
    1、電子束蒸發(fā)源蒸鍍法
    電子束蒸發(fā)鍍是將蒸發(fā)材料放入水冷銅坩鍋中，直接利用電子束加熱，使蒸發(fā)材料氣化蒸發(fā)后凝結(jié)在基板表面形成膜，是真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)中的一種重要的加熱方法和發(fā)展方向。電子束蒸發(fā)克服了一般電阻加熱蒸發(fā)的許多缺點(diǎn)，特別適合制作熔點(diǎn)薄膜材料和高純薄膜材料。
     
    優(yōu)點(diǎn)：
    （1）電子束轟擊熱源的束流密度高，能獲得遠(yuǎn)比電阻加熱源更大的能量密度。
    （2）由于被蒸發(fā)材料是置于水冷坩鍋內(nèi)，因而可避免容器材料的蒸發(fā)，以及容器材料與蒸鍍材料之間的反應(yīng)，這對(duì)提高鍍膜的純度極為重要。
    （3）熱量可直接加到蒸鍍材料的表面，因而熱效率高熱傳導(dǎo)和熱輻射的損失少。
     
    2、電阻蒸發(fā)源蒸鍍法
    電阻加熱蒸發(fā)法就是采用鎢、鉬等高熔點(diǎn)金屬，做成適當(dāng)形狀的蒸發(fā)源，其上裝入待蒸發(fā)材料，讓電流通過，對(duì)蒸發(fā)材料進(jìn)行直接加熱蒸發(fā)，或者把待蒸發(fā)材料放入坩鍋中進(jìn)行間接加熱蒸發(fā)。
     
    優(yōu)點(diǎn)：
    利用電阻加熱器加熱蒸發(fā)的鍍膜設(shè)備構(gòu)造簡單、造價(jià)便宜、使用可靠，可用于熔點(diǎn)不太高的材料的蒸發(fā)鍍膜，尤其適用于對(duì)膜層質(zhì)量要求不太高的大批量的生產(chǎn)中。
     
    缺點(diǎn)：
    加熱所能達(dá)到的溫度有限，加熱器的壽命也較短。